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DNK大日本科研 MX-1201 日本曝光機(jī) ***曝光 紫外曝光機(jī)
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DNK大日本科研 MX-1201 日本曝光機(jī) ***曝光 紫外曝光機(jī)
DSMRO012
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它是一種可以通過(guò)原始高速繪圖“點(diǎn)陣法”直接繪制圖案的設(shè)備。
無(wú)掩模曝光技術(shù)
-
直接圖像曝光是可能的研究和開(kāi)發(fā)，試制，小批量生產(chǎn)和其他應(yīng)用程序。
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可以支持**PCB，高密度封裝，平板顯示器等，MEMS等微加工領(lǐng)域可供選擇。
-
在光刻工藝中不需要光掩模，可以*小化開(kāi)發(fā)成本和時(shí)間差。
-
另外，我們可以根據(jù)您的需求來(lái)響應(yīng)設(shè)備的需求。
MX-1201
MX-1201
MX-1201E
MX-1204
MX-1702e的
*小線寬（* 1）
5微米
5微米
3微米
1微米
10微米
數(shù)據(jù)分辨率
0.5微米
0.5微米
0.25微米
0.122μm
1.0微米
*大板尺寸
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
有效的接觸面積
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
激光主波長(zhǎng)
405±5nm
375±5nm
405±5nm
375±5nm
405±5nm
曝光掃描速度
43.9毫米/秒
22.5毫米/秒
10.9毫米/秒
92.2毫米/秒
光學(xué)引擎的數(shù)量
1
7
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它是一種可以通過(guò)原始高速繪圖“點(diǎn)陣法”直接繪制圖案的設(shè)備。
無(wú)掩模曝光技術(shù)
-
直接圖像曝光是可能的研究和開(kāi)發(fā)，試制，小批量生產(chǎn)和其他應(yīng)用程序。
-
可以支持**PCB，高密度封裝，平板顯示器等，MEMS等微加工領(lǐng)域可供選擇。
-
在光刻工藝中不需要光掩模，可以*小化開(kāi)發(fā)成本和時(shí)間差。
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另外，我們可以根據(jù)您的需求來(lái)響應(yīng)設(shè)備的需求。
MX-1201
MX-1201
MX-1201E
MX-1204
MX-1702e的
*小線寬（* 1）
5微米
5微米
3微米
1微米
10微米
數(shù)據(jù)分辨率
0.5微米
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1.0微米
*大板尺寸
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
有效的接觸面積
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
激光主波長(zhǎng)
405±5nm
375±5nm
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375±5nm
405±5nm
曝光掃描速度
43.9毫米/秒
22.5毫米/秒
10.9毫米/秒
92.2毫米/秒
光學(xué)引擎的數(shù)量
1
7
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它是一種可以通過(guò)原始高速繪圖“點(diǎn)陣法”直接繪制圖案的設(shè)備。
無(wú)掩模曝光技術(shù)
-
直接圖像曝光是可能的研究和開(kāi)發(fā)，試制，小批量生產(chǎn)和其他應(yīng)用程序。
-
可以支持**PCB，高密度封裝，平板顯示器等，MEMS等微加工領(lǐng)域可供選擇。
-
在光刻工藝中不需要光掩模，可以*小化開(kāi)發(fā)成本和時(shí)間差。
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另外，我們可以根據(jù)您的需求來(lái)響應(yīng)設(shè)備的需求。
MX-1201
MX-1201
MX-1201E
MX-1204
MX-1702e的
*小線寬（* 1）
5微米
5微米
3微米
1微米
10微米
數(shù)據(jù)分辨率
0.5微米
0.5微米
0.25微米
0.122μm
1.0微米
*大板尺寸
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
有效的接觸面積
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
550 x 650毫米
激光主波長(zhǎng)
405±5nm
375±5nm
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405±5nm
曝光掃描速度
43.9毫米/秒
22.5毫米/秒
10.9毫米/秒
92.2毫米/秒
光學(xué)引擎的數(shù)量
1
7
它是一種可以通過(guò)原始高速繪圖“點(diǎn)陣法”直接繪制圖案的設(shè)備。
無(wú)掩模曝光技術(shù)
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直接圖像曝光是可能的研究和開(kāi)發(fā)，試制，小批量生產(chǎn)和其他應(yīng)用程序。
-
可以支持**PCB，高密度封裝，平板顯示器等，MEMS等微加工領(lǐng)域可供選擇。
-
在光刻工藝中不需要光掩模，可以*小化開(kāi)發(fā)成本和時(shí)間差。
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另外，我們可以根據(jù)您的需求來(lái)響應(yīng)設(shè)備的需求。
MX-1201
MX-1201
MX-1201E
MX-1204
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*小線寬（* 1）
5微米
5微米
3微米
1微米
10微米
數(shù)據(jù)分辨率
0.5微米
0.5微米
0.25微米
0.122μm
1.0微米
*大板尺寸
200 x 200毫米
200 x 200毫米
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150×150毫米
550 x 650毫米
有效的接觸面積
200 x 200毫米
200 x 200毫米
200 x 200毫米
150×150毫米
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激光主波長(zhǎng)
405±5nm
375±5nm
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曝光掃描速度
43.9毫米/秒
22.5毫米/秒
10.9毫米/秒
92.2毫米/秒
光學(xué)引擎的數(shù)量
1
7
它是一種可以通過(guò)原始高速繪圖“點(diǎn)陣法”直接繪制圖案的設(shè)備。
| MX-1201 | MX-1201 | MX-1201E | MX-1204 | MX-1702e的 | |
| *小線寬（* 1） | 5微米 | 5微米 | 3微米 | 1微米 | 10微米 |
| 數(shù)據(jù)分辨率 | 0.5微米 | 0.5微米 | 0.25微米 | 0.122μm | 1.0微米 |
| *大板尺寸 | 200 x 200毫米 | 200 x 200毫米 | 200 x 200毫米 | 150×150毫米 | 550 x 650毫米 |
| 有效的接觸面積 | 200 x 200毫米 | 200 x 200毫米 | 200 x 200毫米 | 150×150毫米 | 550 x 650毫米 |
| 激光主波長(zhǎng) | 405±5nm | 375±5nm | 405±5nm | 375±5nm | 405±5nm |
| 曝光掃描速度 | 43.9毫米/秒 | 22.5毫米/秒 | 10.9毫米/秒 | 92.2毫米/秒 | |
| 光學(xué)引擎的數(shù)量 | 1 | 7 | |||
電商集團(tuán)（中國(guó)）有限公司成立于2009年，是香港電商集團(tuán)在中國(guó)的全資分公司，位于深圳市南山前海金融區(qū)，注冊(cè)資本壹億元，主營(yíng)業(yè)務(wù)涵蓋國(guó)際貿(mào)易、婦嬰用品、醫(yī)遼、汽車(chē)、酒店、百貨、投資理財(cái)、互聯(lián)網(wǎng)等領(lǐng)域。集團(tuán)在香港已建立完善的渠道網(wǎng)絡(luò)，豐富的領(lǐng)域資源，密切的政府協(xié)作，三大方面保障了公司業(yè)務(wù)的順利發(fā)展。秉承“行業(yè)多元化，水準(zhǔn)國(guó)際化，服務(wù)專業(yè)化”的“三化”服務(wù)理念，利用其國(guó)際化的專業(yè)知識(shí)體系、精細(xì)化的服務(wù)流程、高性能的服務(wù)水準(zhǔn)，為客戶提供高性價(jià)比的產(chǎn)品和全方位立體化解決方案。集團(tuán)的采購(gòu)商品來(lái)自美國(guó)、德國(guó)、瑞士、法國(guó)、意大利、日本、韓國(guó)，并建立了分公司，從而取得優(yōu)勢(shì)的產(chǎn)品貨源，以及*即時(shí)的產(chǎn)品訊息。集團(tuán)服務(wù)客戶已超過(guò)萬(wàn)家，并獲得了百家國(guó)際品牌授權(quán)代理。
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